1.爐體：
真空爐爐體為臥式圓柱形雙層水冷結構，包括外殼、加熱室、前門和后爐門。外殼法蘭為不銹鋼，采用氬弧焊。前后門，前門裝載。爐門為全不銹鋼雙水冷橢圓頭結構，進料端爐門可自動打開和關閉，另一端爐缸鎖定，側門打開形式。爐子_閥體配有氣動接口和閥門。排氣閥。標準溫度接口。泄漏檢測接口等。配備寬帶高溫合金加熱器。寬帶加熱器和水冷爐壁配不銹鋼隔熱罩，厚度為0.5mm。爐門。爐法蘭采用橡膠密封圈，滿足高真空密封要求，密封性能穩定可靠。
2.真空系統：
為了快速消除爐內氣體和材料熱處理中氣體散發的大量雜質，保持爐內真空滿足工藝要求，設備配備了兩組KT-800-a擴散泵單元，具有較強的抽氣能力。兩個擴散泵均配備油蓋和溫度監測，并配備加熱功率調節器，以防止油回流。同時，為防止真空泵油蒸汽污染工件，在KT-800A擴散泵端口設置低溫氟利昂冷卻套，提高真空室的清潔度。
3.冷卻水系統及加熱室快速冷卻系統：
冷卻水系統包括配水器、水箱、閥門、管道和各種檢測元件。具有水壓、水流、水溫、缺水報警和聯鎖功能。同時，為了提高設備的效率，該設備配備了一個快速的氣體冷卻系統。快速冷卻系統由開關、磁流體密封、快速冷卻風扇、軟接管、接管部件組成。當設備運行到快速冷卻過程時，打開氬氣閥，向爐內充入高純氬氣。爐內氣體壓力達到設定值后，設備快速冷卻風扇啟動，熱空氣進入換熱器，換熱，氣體通過通風管冷卻進入爐內，冷卻工件，循環。在此過程中，當爐內壓力低于70kpa時，自動打開氬氣閥，向爐內添加氬氣。
4.電控系統：
電氣控制系統由工業控制機和工業控制組態軟件組成。數據采集卡。溫度控制器(歐洲)與通信輸入輸出模塊。PLC(帶相應的I/O擴展。通信接口)。真空計輸出控制。通信接口等。電氣控制系統由多個控制柜(制造商設計)組成。控制柜面板具有真空系統和電源加熱系統的操作模擬圖。同時顯示加熱電流。溫度和擴散泵電流。整個控制系統可自動手動切換，操作(控制)柜配備常用控制按鈕。加熱程序的調用和運行可由上位機和主控溫度控制器操作。操作箱安裝在爐門附近，便于觀察和控制給料機構。操作箱包括給料、給料、停止等按鈕和指示燈。主電路包括低壓保險絲，保險絲快。真空單元塊后，用小變壓器或功率模塊代替大磁調諧，減少占地面積，穩定運行。
在制作箱式真空爐時，應注意以下三點，以確保生產出越來越好的產品。
1.一般采用一種方法計算功率，另一種或兩種方法進行檢查和糾正。根據電阻爐的分區和功率分配，確定功率。選擇材料并計算參數，包括耐寒性、電源電壓、線徑和長度。
2.箱式爐的理論計算主要參數為產量、溫度和加熱時間。經驗計算通常分為三類：根據爐工作溫度的體積、表面積和計算能力，或根據爐或爐溫或同一爐輸出功率的類型計算。
3.箱式爐的具體選擇應考慮材料的抗氧化性、耐高溫性、耐滲碳性、工藝性和表面負荷。條狀加熱體表面的負荷大于絲狀加熱體，可增加50%。
采用真空爐加熱管，以石墨為立式真空電阻爐加熱元件，真空與氛圍，高溫燒結，高工作溫度2100度，適用于真空熱處理材料、真空燒結、燒結氛圍。PID調節、自整定功能、晶體模塊化硅控制、高溫控制精度。相關的燒結材料包括陶瓷、金屬化合物、無機化合物、納米材料、熒光粉燒結和藍寶石退火，真空管燒結爐是大學實驗室常用的設備。
碳管真空爐電氣設備配置系統：
1.碳管真空爐采用晶閘管和大電流互感器加熱電源。控制系統具有超壓、過流、斷水、高溫報警功能，并自動切斷加熱。溫度控制采用熱電偶+紅外儀表(熱電偶有自動退出裝置)調節功率控制器的輸出電壓，自動實現爐溫加熱/冷卻控制。該系統還保留了手動加熱功能，以便在必要時使用。
2.真空爐操作系統由溫度控制儀器和熱電偶+紅外儀器組成，控制溫度控制電路，直接控制加熱體上的電壓，實現溫度循環控制。主控儀器為日本導電品牌FP93系列，多段程控溫度;監控儀器為508系列，溫度記錄在觸摸屏上。
3.電控柜為威圖標準柜，動作控制由歐姆龍PLC實現，電氣聯鎖和系統保護功能可通過編程實現。PLC與觸摸屏通信，可在觸摸屏上設置動作參數。
真空爐用途:真空爐及加熱粉制品，玻璃容器消毒設計。廣泛應用于醫藥、食品、輕工、化工、農業、環保、檢測等領域。
真空爐特點：1。集成真空烤箱、泵等相關設備設計，操作簡單，性能穩定。
2.自動抽真空，根據需要設置真空度;可預置多個程序，以確保多級重復抽水。實驗繼續進行，真空度降低，控制器將重新啟動泵，顯示錯誤，以確保真空度的穩定性和準確性。
3.手動和電動雙空氣過濾器、排氣;停電時使用手動閥操作簡單。
4.內部管道和空氣過濾器，以確保真空泵的長使用壽命。
5.真空度顯示帶有數字儀器和儀器指針。