真空燒結爐首要的目的便是為了加熱，在加熱過程中需要要求加熱速率快，選用的加熱資料一定要保證熱導率好，并且在高溫下不能產生變形和大量的熱丟失，要保證在運用過程中在一段時間內功用要穩定。所以，在選取加熱元件時也要依據自己所需處理產品的化學功用，以免設備加熱元件的原料影響到工件的質量。因而，真空爐要合理的選取加熱元件。
在運用設備作業時，試驗中如果有液體存在，就需要一個真空燒結爐的液體蒸發的過程，能夠通過長期拉真空來氣化掉這部分液體從而到達高真空。如果長期都達不到方針氣壓的話，就要考慮體系和羅茨泵了，你能夠直接測一下羅茨泵的極限真空，若完好則便是體系的密封功用了。
用處：用于氮化硼,硬質合金,金屬粉末制品，碳纖維、光電元件、碳化硅、陶瓷資料、磁性合金、碳資料及其它稀有及難熔金屬資料的高溫燒結，同時具備脫蠟功用。
真空燒結爐的腔體內部要清潔作業，需求重視各氣孔有無阻塞。有機排和熱排的清潔作業，請用酒精清潔設備上的有機物等。爐體上的密封結構，真空體系等零部件拆裝時，運用酒精或汽油清洗干凈并經過枯燥后，涂上真空油脂再組裝上。停爐后，爐內必需保持在66.5LPA以下的真空度。別的，設備的真空泵，閥門，測量儀器，熱工儀表，電氣元件等配套件，都必須依照產品的技術說明運用、修理以及保養。修理操作應在不通電的情況下進行。如果在帶電情況下進行修理時，必須由專業的修理人員進行修理，同時保證人身及設備的安全。
特色：
1、無噪音，對電網無污染，電能利用率高。
2、溫度高達3000度，溫度均勻度為≤±10℃，高速度：200℃/分鐘(空爐)，大容量(900*2000)，高品質。
3、選用數顯化智能控溫體系，體系可按給定升溫曲線升溫，并可貯存二十條共400段不同的工藝加熱曲線。
4、設備選用內循環純水冷卻體系，數字式流量監控體系，全面的PLC水、電、氣自動控制和維護體系。