真空爐石墨發(fā)熱元件的適用場景
半導(dǎo)體工業(yè)：單晶硅 / 碳化硅襯底的高溫退火爐、離子注入機(jī)加熱系統(tǒng)，確保溫度穩(wěn)定性（±1℃），避免雜質(zhì)污染；
航空航天資料處理：高溫合金、陶瓷基復(fù)合資料的燒結(jié)爐，支撐 2000℃以上超高溫工藝，進(jìn)步資料致密度；
新能源資料制備：鋰電池正極資料的煅燒爐、燃料電池催化劑的高溫恢復(fù)爐，習(xí)慣氫氣等恢復(fù)性氣氛；
高溫試驗(yàn)設(shè)備：高校、研究所的資料功能檢驗(yàn)爐、熱模仿試驗(yàn)機(jī)，可精準(zhǔn)控制升溫曲線與保溫時(shí)刻；
貴金屬熔煉：黃金、鉑金的真空熔煉爐，發(fā)熱體不與貴金屬反響，確保金屬純度達(dá) 99.999% 以上。
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